pvd和cvd各是什么意思

答：CVD称为化学气相沉积，也就是利用化学反应，让二种原本不相甘的材料经过化学反应的方式产生另一个新的化合物，然後沉积在你的基板上面。称为CVD。通常导入的气体是要跟著反应的气体。

PVD称为物理气相沉积，也就是只行物理反应，通入的气体并没有与里面的预镀材料发生化学变化而产生新的化合物(顶多就让材料变成离子态)。然後镀在材料基板上面。