光阻可以水洗吗

可以水洗

光阻一般用作IC制造的光罩,使命完成后,应加以去除。光阻清洗包括前后段干湿刻蚀后光阻去除, S912XEG128J1MAA离子植入后光阻去除,曝光后L下层错位较大或缺陷较多需要重做的光阻去除(rework)。光阻下层的材料有很多种,如⒏、Si02、SiN、Al、I冫°wk等,这就要求在去除光阻的同时,不伤及下层薄膜。但零缺陷是不存在的,因此就出现不同的去除方法,以确保损伤最小。去除方法有无机氧化去除,有机湿法去除,氧电浆灰化合并无机氧化去除、氧电浆灰化合并有机湿法去除。